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孫秀輝，副研究員，博士畢業(yè)于四川大學(xué)物理學(xué)院光學(xué)專(zhuān)業(yè)，獲理學(xué)博士學(xué)位。研究方向主要涉及微納光學(xué)與光束整形，以及衍射光學(xué)與全息顯示。主持并參與多項國家級、省級、橫向課題。目前已發(fā)表學(xué)術(shù)論文10余篇，獲得國家授權專(zhuān)利20余項，同時(shí)受邀為 Optics Express等雜志審稿?，F任中國光學(xué)工程學(xué)會(huì )光顯示專(zhuān)業(yè)委員會(huì )委員。 

集成光電技術(shù)研究中心

 微納光學(xué)，衍射光學(xué)與全息顯示 

 第八屆中國光學(xué)工程學(xué)會(huì )科技進(jìn)步一等獎 

1)Sun X, Yin S, Jiang H, et al. U-Net convolutional neural network-based modification method for precise fabrication of three-dimensional microstructures using laser direct writing lithography[J]. Optics Express, 2021, 29(4): 6236-6247.  

2)Sun X, Mu X，Xu C, et al. Dual-task convolutional neural network based on the combination of U-Net and diffraction propagation model for phase hologram design with suppressed speckle noise[J]. Optics Express, 2022, 30(2): 2646-2658.  

3)Fang Q, Lv Y, Yan Z, Sun X, Shen J, Yin S, et al. Photoalignment of sub-micrometer periodic liquid crystal polarization grating by using optical imprinting method[J]. Optics Express, 2023, 31(8): 13428-13435.  

4)Yang C, Jiang H, Wang J, Sun X, et al. Diffuser screen with flat-top angular distribution of scattered light realized by a dual-beam holographic speckle[J]. Optics Express, 2021, 29(6): 8523-8530.  

5)Jiang H, Sun X, Yang R, et al. Design of UV LED illumination system for direct imaging lithography[J]. Optical Engineering, 2019, 58(7): 075103.  

專(zhuān)利(第一發(fā)明人)  

1) 采用DMD與液晶調制的曲面光刻方法，發(fā)明專(zhuān)利，CN111077741B，已授權。  

2) 用于紫外LED準直的透鏡，發(fā)明專(zhuān)利，CN103162234B，已授權。  

3) 一種高均勻度曝光機光路系統，實(shí)用新型專(zhuān)利，CN205485280U，已授權。  

4) 一種基于DMD的藍光激發(fā)熒光粉式激光車(chē)燈，實(shí)用新型專(zhuān)利，CN204740418U，已授權。  

5) 一種導光照明自適應激光前照燈，實(shí)用新型專(zhuān)利，CN204786017U，已授權。  

1) 重慶市科委技術(shù)創(chuàng )新與應用發(fā)展專(zhuān)項重點(diǎn)項目子課題，“特種工況實(shí)時(shí)在線(xiàn)測量?jì)x表及應用”，2019.09-2022.06，經(jīng)費40萬(wàn)元。  

2) 激光推進(jìn)及其應用國家重點(diǎn)實(shí)驗室研發(fā)基金項目，“二維高密度TDLAS光學(xué)系統可靠性研究與設計”，2020年，經(jīng)費20萬(wàn)元。  

3) 重慶研究院基礎研究重點(diǎn)課題，“基于二次衍射理論的全息顯示關(guān)鍵技術(shù)研究”，2023年，經(jīng)費10萬(wàn)元。  

4) 企業(yè)橫向項目（法雷奧集團），“透視照明光學(xué)開(kāi)發(fā)”，2023.03-2024.02，經(jīng)費75萬(wàn)元。  

5) 企業(yè)橫向項目，“用于膠印機的高亮度、超緊湊微光學(xué)固化系統設計與實(shí)現”，2021.05-2022.04，經(jīng)費100萬(wàn)元。  

近期主研項目  

1) 企業(yè)橫向項目（華為2012實(shí)驗室），“激光雷達光束整形技術(shù)合作項目”，2022.08-2023.08，經(jīng)費123.6萬(wàn)元。  

2) 國家重點(diǎn)研發(fā)計劃子課題，“面向大數據應用的桌面實(shí)時(shí)真三維顯示技術(shù)之全息真三維顯示器件”，2017.10-2021.09，經(jīng)費80萬(wàn)元。  

3) 重慶市重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)共性關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng )新專(zhuān)項，“液晶面板低成本光刻工藝與裝備開(kāi)發(fā)及應”，2015.12-2018.09，經(jīng)費200萬(wàn)元。  

4) 激光推進(jìn)及其應用國家重點(diǎn)實(shí)驗室基金研發(fā)項目，“高密度光學(xué)探頭設計與研制”，2017-2019年，經(jīng)費70萬(wàn)元。